不同靶材制备TaN单层薄膜的晶体结构与力学性能

• 作者: 刘桐 张学华 曹猛 李德军 杨瑾
• 来源期刊: 天津师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控溅射 TaN单层膜 TaN靶材 Ta靶材
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 页码范围: 10-12
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 2362字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-1114.2007.01.004

摘要

以钽氮化物为个体层材料,利用FJL560CI2型超高真空射频磁控与离子束联合溅射系统,制备以TaN和金属Ta为靶材的两种TaN单层薄膜.通过XRD和纳米力学测试系统分析它们的晶体结构和TaN靶材对薄膜机械性能的影响.结果表明,TaN靶材制备的TaN单层膜的纳米硬度值普遍高于Ta靶材的;当工作气压为0.4 Pa时,TaN单层膜的硬度最大,即35.4 GPa,其结晶出现多元化,使单层膜的硬度、弹性模量以及膜基结合性能均达到最佳.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨瑾	天津师范大学物理与电子信息学院	14	36	4.0	4.0
2	李德军	天津师范大学物理与电子信息学院	73	242	7.0	11.0
3	刘桐	天津师范大学物理与电子信息学院	29	103	6.0	8.0
4	张学华	天津师范大学物理与电子信息学院	10	34	4.0	5.0
5	曹猛	天津师范大学物理与电子信息学院	12	36	5.0	5.0