电子束直写中X射线光刻掩模的热形变研究

• 作者: 尚鸿雁 王永坤
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 面内形变 面外形变 电子束直写 图形制备 有限元分析
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 电子束技术
• 页码范围: 10-13,25
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2697字
• 语种: 中文

摘要

对X射线掩模电子束制备图形过程建立三维有限元模型,提出用热流密度等效法简化瞬态热应力计算,得到了X射线掩模在电子束直写过程中的瞬态热形变.结果表明,掩模面内形变在直写过程中出现振荡变化,最大值为8.24 nm,方向背离电子束光照中心,掩模面外形变最大值为9.75μm,方向沿图形窗口法线方向,并出现在电子束束斑中心.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	尚鸿雁	上海海事大学物流工程学院	11	54	5.0	7.0
2	王永坤	北京航空航天大学航空科学与工程学院	10	33	4.0	5.0