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摘要:
采用电子辅助-热丝化学气相沉积法(EA-HFCVD)在硅片上沉积出晶粒尺寸为30 nm的均匀金刚石膜.生长过程中,预先加6 A偏流生长1 h,然后在0.8 kPa条件下,无偏流生长3 h.光致发光谱中存在4个发光中心分别位于1.682 eV, 1,564 eV, 1,518 eV和1.512 eV的发光峰.1.682 eV处发光峰源于衬底硅原子掺杂于膜中引起的缺陷;其他发光峰源于金刚石晶格振动声子.光致发光强度越大对应的缺陷密度越大,从而降低了场发射域值电场强度,其关键可能源于金刚石膜电导型晶界.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 EA-HFCVD 沉积纳米金刚石膜的光致发光分析
来源期刊 液晶与显示 学科 工学
关键词 光致发光 纳米金刚石膜 电子辅助-热丝化学气相沉积
年,卷(期) 2007,(5) 所属期刊栏目 研究报告
研究方向 页码范围 529-534
页数 6页 分类号 TN873.95
字数 1462字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1007-2780.2007.05.007
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 夏义本 上海大学材料科学与工程学院 111 725 13.0 19.0
2 王林军 上海大学材料科学与工程学院 109 441 11.0 14.0
3 胡广 上海大学材料科学与工程学院 5 4 1.0 1.0
4 祝雪丰 上海大学材料科学与工程学院 5 4 1.0 1.0
5 黄健 上海大学材料科学与工程学院 17 28 3.0 4.0
6 徐金勇 上海大学材料科学与工程学院 3 2 1.0 1.0
7 刘健敏 上海大学材料科学与工程学院 22 87 5.0 6.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
光致发光
纳米金刚石膜
电子辅助-热丝化学气相沉积
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
液晶与显示
月刊
1007-2780
22-1259/O4
大16开
长春市东南湖大路3888号
12-203
1986
chi
出版文献量(篇)
3141
总下载数(次)
7
总被引数(次)
21631
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:the National Natural Science Foundation of China
官方网址:http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:数理科学
论文1v1指导