铸造多晶硅硅片的磷吸杂研究

• 作者: 唐骏 姚剑 席珍强 徐敏 杜平凡 黄笑容
• 来源期刊: 能源工程
• 学科: 工学
• 关键词: 多晶硅 磷吸杂 少子寿命
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 新能源及工艺
• 页码范围: 34-36
• 页数: 3页
• 分类号: TK512
• 字数: 2044字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-3950.2007.03.008

摘要

主要研究了铸造多晶硅晶锭不同位置的硅片在磷吸杂前后电学性能的变化.结果发现,经过870%磷吸杂40 min后不同位置处硅片的少数载流子寿命都有显著的提高,其中来自硅锭底部硅片的少数载流子寿命的提高程度明显低于来自顶部样品寿命的提高幅度.由于氧的分凝效应,在铸造多晶硅底部材料中含有较高浓度的间隙氧.结果表明,多晶硅磷吸杂的效果不仅与材料中过渡族金属的分布以及形态有关,而且还可能与硅中氧的浓度有关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	席珍强	浙江理工大学材料研究中心	36	71	5.0	7.0
2	杜平凡	浙江理工大学材料研究中心	21	77	5.0	8.0
3	姚剑	浙江理工大学材料研究中心	7	10	2.0	3.0
4	徐敏	浙江理工大学材料研究中心	9	66	4.0	8.0
5	唐骏		1	5	1.0	1.0
6	黄笑容		1	5	1.0	1.0