氧压对用PLD法生长氧化锌薄膜的电学特性的影响

• 作者: 刘木林 叶志清 吴木生 欧阳桂仓 邓海东
• 来源期刊: 中国材料科技与设备
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化锌薄膜 脉冲激光沉积 电阻率 氧压
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 页码范围: 41-43
• 页数: 3页
• 分类号: O484.42

摘要

本文研究了用脉冲激光沉积（PLD）法制备ZnO薄膜，给出了在不同氧压下生长氧化锌（ZnO）薄膜的XRD谱、表面的AFM图以及电阻率、迁移率、载流子浓度以及导电类型等电学特性，为探索制备P型ZnO薄膜提供实验依据。