硅粉在带振动阴极反应室中的刻蚀

• 作者: 尹盛 王家鑫 王敬义 王飞 赵亮 赵伯芳
• 来源期刊: 中国材料科技与设备
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体纯化 粉体表面刻蚀 振动阴极
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 页码范围: 37-40
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.051

摘要

文中提供了带倾斜角振动171极的等离子体反应室及他用于刻蚀硅粉的实验结果。振动171极上硅粉的运动分析表明其在反应区滞留的时间可达数分钟之久，这就使低纯硅粉的纯化处理可一次完成。刻蚀速率模型几个关键公式的计算结果表明中性高能粒子的刻蚀效果不可忽视。理论分析与实验数据大致吻合，这证明新的反应室用于粉粒表面刻蚀和纯化都大大优于立式反应室。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵伯芳	华中科技大学电子科学与技术系	11	38	4.0	6.0
2	尹盛	华中科技大学电子科学与技术系	38	448	12.0	19.0
3	王敬义	华中科技大学电子科学与技术系	17	44	4.0	5.0
4	王飞	华中科技大学电子科学与技术系	18	79	6.0	8.0
5	赵亮	华中科技大学电子科学与技术系	29	154	7.0	11.0
6	王家鑫	华中科技大学电子科学与技术系	2	1	1.0	1.0