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半导体桥芯片性能影响因素的研究
半导体桥
瞎火
性能
影响因素
45nm CMOS工艺下的低泄漏多米诺电路研究
多米诺逻辑
阈值电压
亚阈值泄漏
栅极氧化层
980 nm半导体激光器的模场分布
半导体激光器
模场分布
高斯光束
发散
半导体芯片PCM测试技术的应用研究
半导体制造
PCM测试机
测试精度
测试效率
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
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文献信息
篇名 特许半导体拟用45nm技术向AMD提供芯片代工
来源期刊 半导体信息 学科 经济
关键词 AMD NM 纳米工艺 美林公司 纳米技术 谢松 工艺规范 科技研讨会 尺寸范围
年,卷(期) 2007,(5) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 26-27
页数 2页 分类号 F416.63
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研究主题发展历程
节点文献
AMD
NM
纳米工艺
美林公司
纳米技术
谢松
工艺规范
科技研讨会
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研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体信息
双月刊
16开
南京市1601信箱43分箱(南京市中山东
1990
chi
出版文献量(篇)
5953
总下载数(次)
11
总被引数(次)
664
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