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NBTI效应及其对集成电路设计的影响
NBTI效应及其对集成电路设计的影响
作者:
周晓明
夏炎
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
NBTI
尺寸缩小
p-MOSFET
集成电路设计
摘要:
可靠性设计是现代集成电路设计需要考虑的一个重要问题.对影响电路可靠性的一个最主要效应--P-MOSFET的NBTI效应进行了系统的介绍.给出了不同电压、温度下器件性能随时问变化趋势的最新研究成果.最后介绍了SPICE考虑器件器件退化的电路模拟流程.在器件尺寸日益缩小的今天,这些将成为集成电路设计关注的焦点.
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文献信息
篇名
NBTI效应及其对集成电路设计的影响
来源期刊
电子器件
学科
工学
关键词
NBTI
尺寸缩小
p-MOSFET
集成电路设计
年,卷(期)
2007,(2)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
407-410
页数
4页
分类号
TF331.1
字数
3023字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1005-9490.2007.02.016
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
夏炎
16
128
7.0
11.0
2
周晓明
4
2
1.0
1.0
传播情况
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引证文献(1)
二级引证文献(0)
2019(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
NBTI
尺寸缩小
p-MOSFET
集成电路设计
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子器件
主办单位:
东南大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1005-9490
CN:
32-1416/TN
开本:
大16开
出版地:
南京市四牌楼2号
邮发代号:
创刊时间:
1978
语种:
chi
出版文献量(篇)
5460
总下载数(次)
21
总被引数(次)
27643
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