CVD金刚石膜的抛光研究进展

• 作者: 吴利峰 吴振辉 张磊 谭必松 马志斌
• 来源期刊: 硬质合金
• 学科: 工学
• 关键词: CVD 金刚石膜 抛光
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 综合评述
• 页码范围: 192-197
• 页数: 6页
• 分类号: TG1
• 字数: 5753字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-7292.2008.03.013

摘要

化学气相沉积的金刚石膜表面一般比较粗糙,需要经过抛光才能实现其具体的工业应用.本文介绍了各种抛光CVD金刚石膜的方法及近来研究进展,分析了各种技术的优缺点,并结合工业应用对CVD金刚石膜的抛光前景作了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张磊	武汉工程大学等离子体化学与新材料省重点实验室	7	23	3.0	4.0
2	马志斌	武汉工程大学等离子体化学与新材料省重点实验室	58	189	7.0	10.0
3	吴利峰	武汉工程大学等离子体化学与新材料省重点实验室	5	13	2.0	3.0
4	谭必松	武汉工程大学等离子体化学与新材料省重点实验室	6	29	3.0	5.0
5	吴振辉	武汉工程大学等离子体化学与新材料省重点实验室	6	23	3.0	4.0