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摘要:
依据化学合成原理,采用原位一体工艺,合成聚酰胺酸(PAA),通过正硅酸乙酯的改性,制成聚酰亚胺复合材料;采用SME、紫外可见光谱、傅立叶红外变换表征性能.结果表明,无机小分子在聚酰亚胺(PI)基体中分散情况均匀、良好,材料对紫外光有优越的吸收性能,并具有低的介电常数.
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文献信息
篇名 正硅酸乙酯对聚酰亚胺性能影响
来源期刊 合成技术及应用 学科 工学
关键词 正硅酸乙酯 聚酰亚胺 改性
年,卷(期) 2008,(4) 所属期刊栏目 应用技术
研究方向 页码范围 50-52
页数 3页 分类号 TQ323.7
字数 2180字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1006-334X.2008.04.014
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作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王铎 44 142 7.0 8.0
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1006-334X
32-1414/TQ
大16开
江苏仪征市仪化股份有限公司技术中心
28-182
1986
chi
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