基于田口方法的合金薄膜铜衬底超精密抛光工艺优化研究

• 作者: 吕冰海 文东辉 朱从容 袁巨龙
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 田口方法 铜衬底 抛光 工艺优化
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 微机械加工技术
• 页码范围: 58-61
• 页数: 4页
• 分类号: TG175
• 字数: 3041字
• 语种: 中文

摘要

为了获得性能优良的电化学沉积合金薄膜,需要精度非常高的合金薄膜铜衬底.以铜衬底表面粗糙度Ra和Rt为评价目标,探讨了基于田口方法的铜衬底抛光工艺参数优化设计方法.在给定工件材料和磨料(种类和粒度)的条件下,加工载荷、磨料浓度和加工速度是影响铜衬底抛光表面质量的主要工艺参数.运用田口方法进行了实验设计,并通过对实验结果的分析,得出了最佳的抛光工艺参数组合,采用该实验条件进行加工获得了非常光滑的铜衬底表面(Ra 6 nm,Rt 60 nm),表明田口方法能够有效的应用于铜衬底抛光工艺参数的优化设计和分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕冰海	湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心	10	419	5.0	10.0
2	袁巨龙	浙江工业大学机电工程学院	116	1467	19.0	35.0
3	文东辉	浙江工业大学机电工程学院	58	714	12.0	25.0