合金薄膜铜衬底抛光质量对薄膜表面结构的影响

• 作者: 张克华 文东辉 袁巨龙 陶黎
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 合金薄膜 研磨 抛光
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 试验与研究
• 页码范围: 64-67
• 页数: 4页
• 分类号: TG58
• 字数: 1710字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2007.05.017

摘要

合金薄膜具有良好的导电性、抗磨损性质,已成为半导体产业的技术热点.铜做为合金薄膜衬底材料时,要求其有完美的表面.本文采用氧化铝微粉和金刚石抛光膏对合金薄膜铜衬底进行了机械研磨和抛光的实验研究,采用接触式粗糙度仪、AFM、台阶仪和光学显微镜对比分析了铜衬底表面粗糙度、表面均匀性和平面度的变化规律.初步探讨了铜衬底表面对Pd-Ni-P合金薄膜表面结构的影响,研究结果表明采用1 μm平面度,Ra小于3 nm且抛光均匀性好的光滑铜衬底可以获得良好的合金薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陶黎		3	50	3.0	3.0
2	袁巨龙		116	1467	19.0	35.0
3	张克华	浙江师范大学交通学院机械工程系	36	357	10.0	17.0
5	文东辉		58	714	12.0	25.0