纳米硅颗粒镶嵌氧化硅薄膜光致发光谱钉扎和缺陷分布研究

• 作者: 孙小菁 徐小丽 马书懿 魏晋军
• 来源期刊: 西北师范大学学报(自然科学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: 纳米硅薄膜 光致发光 缺陷分布
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 物理学
• 页码范围: 30-33
• 页数: 4页
• 分类号: O472.3
• 字数: 2132字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-988X.2008.05.007

摘要

采用磁控溅射法制备了纳米硅颗粒镶嵌氧化硅薄膜,测试了其光致发光谱,发现其发光强度不仅是纳米硅晶粒尺寸的函数,而且与纳米硅晶粒和二氧化硅间的比例关系有关.实验证实,钉扎现象是由于存在于纳米硅晶粒与非晶态外部介质界面间的发光中心所致,发光中心在界面处的分布并不均匀.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马书懿	西北师范大学物理与电子工程学院	69	226	8.0	11.0
2	徐小丽	西北师范大学物理与电子工程学院	10	63	4.0	7.0
3	孙小菁	西北师范大学物理与电子工程学院	10	65	4.0	8.0
4	魏晋军	西北师范大学知行学院	19	66	4.0	8.0