溅射工艺参数对BaAl2S4薄膜沉积速率、化学组成及电致发光特性的影响

• 作者: 杨云霞 林明通 肖田 范云华 陈国荣
• 来源期刊: 化工新型材料
• 学科: 工学
• 关键词: BaAl2S4 Eu薄膜 射频磁控溅射 沉积速率 化学计量 EL特性
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 科学研究
• 页码范围: 58-60
• 页数: 3页
• 分类号: TQ13
• 字数: 2727字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3536.2008.04.022

摘要

BaAl2S4:Eu发光薄膜是最有希望实现彩色无机电致发光显示器的蓝色电致发光材料.用射频磁控溅射法制备了厚度在150～375nm之间的BaAl2S4:Eu薄膜,研究了溅射功率、Ar/H2S流量比和气压对其沉积速率和化学组成的影响,考察了不同退火条件下BaAl2S4:Eu薄膜的电致发光特性.并根据这些结果分析了较优的工艺条件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨云霞	华东理工大学材料科学与工程学院	30	361	11.0	18.0
2	陈国荣	华东理工大学材料科学与工程学院	51	249	7.0	14.0
3	肖田	华东理工大学材料科学与工程学院	6	17	3.0	4.0
7	林明通	上海广电电子股份有限公司平板显示技术研发中心	7	20	3.0	4.0
8	范云华	华东理工大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0