退火对电弧离子镀制备的ZnO薄膜的影响

• 作者: 何振辉 朱道云 王明东 郑婷 闻立时 陈弟虎
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 阴极电弧离子沉积 ZnO薄膜 退火
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 页码范围: 156-161
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 4015字
• 语种: 中文

摘要

采用阴极电弧离子镀在Si、Al2O3以及玻璃衬底上制备出具有择优取向的ZnO薄膜,并对其进行退火处理.利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、光致发光光谱(PL)、紫外-可见光光谱仪对ZnO薄膜的结构、表面形貌和光学性能进行分析.XRD结果表明,所制备的ZnO薄膜具有很好的ZnO(002)择优取向,退火使ZnO(002)衍射峰向高角度方向偏移.SEM结果表明,随着退火温度升高,表面晶粒由隆起的山脉或塔状变为平面状,晶粒002面呈六边状.PL谱结果表明,随着退火温度的升高,紫外发光峰强度逐渐增强,可见光发光峰强度逐渐相对减弱.紫外可见光透过谱结果表明,退火使可见光透过率增高,光学带隙发生红移.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何振辉	中山大学物理科学与工程技术学院光电材料与技术国家重点实验室	41	186	8.0	11.0
2	闻立时	中山大学物理科学与工程技术学院	9	236	8.0	9.0
3	陈弟虎	中山大学物理科学与工程技术学院光电材料与技术国家重点实验室	42	160	6.0	11.0
4	朱道云	中山大学物理科学与工程技术学院光电材料与技术国家重点实验室	4	13	3.0	3.0
5	王明东	中山大学物理科学与工程技术学院光电材料与技术国家重点实验室	1	2	1.0	1.0
6	郑婷	中山大学物理科学与工程技术学院光电材料与技术国家重点实验室	1	2	1.0	1.0