热铁盘法高速抛光CVD金刚石

• 作者: 孙玉静 陈五一 马泳涛
• 来源期刊: 北京航空航天大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 化学气相沉积 金刚石 抛光 高速 实验
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 页码范围: 412-416
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 3789字
• 语种: 中文

摘要

利用高速热铁盘抛光设备对化学气相沉积(CVD,Chemical Vapor Deposi-tion) 金刚石进行抛光,分别进行温度、转速、压力以及抛光时间的实验.采用光学天平对抛光前后金刚石称重对比,采用工具显微镜和原子力显微镜对抛光后表面进行研究.结果表明:较高的抛光速度对提高表面质量以及抛光效率均比较有利.在抛光温度 850 ℃,速度164 mm/s,压力 24.892 N 的条件下,抛光 120 min 后,金刚石表面的粗糙度由原来的R<,a>=9.67μm下降到R<,a>=0.016 μm.原子力显微镜显示,抛光表面存在少数高度在60～70 nm之间的突峰,其高度是普通峰高的2～3倍,且峰的形状呈现出一定的方向性.这种表面微观规律与抛光时采用的直压式运动方式有关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈五一	北京航空航天大学机械工程及自动化学院	205	2966	29.0	46.0
2	孙玉静	北京航空航天大学材料科学与工程学院	12	57	4.0	7.0
3	马泳涛	北京航空航天大学机械工程及自动化学院	5	6	1.0	2.0