碳化硅陶瓷的放电等离子烧结

• 作者: 何新波 张勇 曲选辉 王玉会
• 来源期刊: 北京科技大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 碳化硅陶瓷 放电等离子烧结 致密度 力学性能
• 年，卷（期）: 2008,（12）
• 页码范围: 1414-1417
• 页数: 4页
• 分类号: TB383
• 字数: 2807字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-053X.2008.12.019

摘要

采用添加了Al2O3和Y2O3助烧剂的碳化硅微粉为原料,通过放电等离子烧结(SPS)技术快速制备了碳化硅陶瓷. 分析了材料致密化过程,并重点研究了烧结工艺参数对材料致密度和力学性能的影响规律. 结果表明,当SPS工艺参数的烧结温度和压力分别为1600℃和50MPa时,经过5min的烧结,碳化硅陶瓷的致密度可达到99.1%,硬度为HV 2550,断裂韧性达8.34MPa·m1/2,弯曲强度达684MPa.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曲选辉	北京科技大学材料科学与工程学院	389	3554	28.0	36.0
2	张勇	北京科技大学材料科学与工程学院	54	529	11.0	21.0
3	何新波	北京科技大学材料科学与工程学院	119	940	16.0	22.0
4	王玉会	北京科技大学材料科学与工程学院	6	37	4.0	6.0