硫系薄膜的力学及摩擦性能研究

• 作者: 聂德品
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: GeSbTe膜 抗压性能 摩擦性能 相变存储
• 年，卷（期）: 2008,（z3）
• 所属期刊栏目: 纳米合成材料
• 页码范围: 38-40
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.44
• 字数: 2461字
• 语种: 中文

摘要

利用电子回旋共振CVD设备制备了一种硫系GeSbTe薄膜,并用纳米硬度计考察了其抗压性能,同时采用划痕实验以及摩擦力显微镜研究了GeSbTe薄膜的摩擦特性.结果表明:GeSb2Te4膜的微观抗载荷性能随着膜厚的增加而显著增强;对于90nm厚度的GeSb2Te4来说,施加1000霳左右的载荷所获得的硬度和弹性模量值受基体的影响较小,分别为2.07GPa、38.70GPa;湿度对Ge2Sb2Te5膜和针尖粘附的影响没有GeSb2Te明显,而且粘附力的存在会改变摩擦系数.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	聂德品		5	4	1.0	2.0