氮化锡负极薄膜的制备与性能研究

• 作者: 李德湛 胡宗倩 谢凯 陈颖超
• 来源期刊: 电源技术
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜锂电池 氮化锡 负极 反应溅射
• 年，卷（期）: 2008,（11）
• 所属期刊栏目: 研究与设计
• 页码范围: 742-744,747
• 页数: 4页
• 分类号: TM912.9
• 字数: 2822字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-087X.2008.11.006

摘要

氮化锡是一种新型薄膜锂电池负极材料,采用射频反应磁控溅射法制备氮化锡负极薄膜,系统研究了反应溅射功率和气流比对氮化锡薄膜结构的影响,并对其充放电性能进行了研究.实验结果表明,在溅射功率75 W,N2/(N2+Ar)流量比0.5的条件下所制备氮化锡薄膜结晶度较好,表面致密具有良好的电性能,首次充放电效率超过60%,50次循环后放电比容量仍保持250 mAh/g.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李德湛	国防科技大学航天与材料工程学院	9	88	5.0	9.0
2	谢凯	国防科技大学航天与材料工程学院	73	638	14.0	20.0
3	陈颖超	国防科技大学航天与材料工程学院	1	0	0.0	0.0
4	胡宗倩	国防科技大学航天与材料工程学院	1	0	0.0	0.0