纳米TiO2薄膜的脉冲激光沉积及其光学特性

• 作者: 李玉华 杨光 陆培祥 陈爱平 龙华
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 物理学
• 关键词: TiO2薄膜 脉冲激光沉积 锐钛矿 金红石
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1070-1074
• 页数: 5页
• 分类号: O484|O433|O766
• 字数: 3029字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2008.05.042

摘要

采用脉冲激光沉积技术(PLD)在硅基片上生长了二氧化钛纳米晶氧化物薄膜,系统讨论了基片温度、氧分压等冈素对薄膜结构特性的影响.X射线衍射结果表明在氧气氛下,生长的薄膜为锐钛矿结构,其结晶性随着基片温度的升高而增强,在750℃、5Pa氧压的情况下为完全c轴取向的锐钛矿相TiO2薄膜,在750℃、5Pa氩气氛下则为(110)取向的金红石相薄膜.场发射扫描电子显微镜结果表明薄膜表面致密,呈纳米晶结构,其晶粒尺寸在35nm左右.用傅立叶红外光谱和拉曼光谱对不同条件下制备的TiO2薄膜进行了表征,紫外-可见透射光谱的测试结果表明,薄膜在可见光区具有良好的透过率,计算得到制备的锐钛矿和金红石相TiO2薄膜在550nm处的折射率分别为2.3和2.5,其光学带隙分别为3.2和3.0eV.因此通过沉积条件的改变可得到结晶性能和光学性能都不同的TiO2薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陆培祥	华中科技大学武汉光电国家实验室	44	232	9.0	12.0
2	杨光	华中科技大学武汉光电国家实验室	50	460	11.0	20.0
3	李玉华	华中科技大学武汉光电国家实验室	40	353	11.0	17.0
4	龙华	华中科技大学武汉光电国家实验室	23	294	9.0	16.0
5	陈爱平	华中科技大学武汉光电国家实验室	3	19	3.0	3.0