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摘要:
利用ISE软件模拟了阻断状态下超结(SJ)的耗尽层与电场分布,从电场分布的角度解释了SJ的击穿机理.并分析关键参数,如P柱与n柱的宽度、浓度等变化对超结击穿电压的影响.结果表明,SJ的击穿机理与传统的圆柱型结不同,SJ的击穿并不发生在结面的拐点处.并且,通过调整边缘区域P柱或n柱的宽度和浓度来提高SJ器件耐压及其稳定性.
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文献信息
篇名 超结的击穿机理与特性分析
来源期刊 电子器件 学科 工学
关键词 电力半导体器件 超结 击穿 电荷平衡 电场分布
年,卷(期) 2008,(3) 所属期刊栏目 其他有关研究和应用
研究方向 页码范围 1026-1029
页数 4页 分类号 TN312+4|TN313+4
字数 3223字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1005-9490.2008.03.075
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 高勇 西安理工大学电子工程系 189 1184 15.0 26.0
2 王彩琳 西安理工大学电子工程系 43 203 8.0 12.0
3 孙军 西安理工大学电子工程系 1 7 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
电力半导体器件
超结
击穿
电荷平衡
电场分布
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子器件
双月刊
1005-9490
32-1416/TN
大16开
南京市四牌楼2号
1978
chi
出版文献量(篇)
5460
总下载数(次)
21
总被引数(次)
27643
论文1v1指导