微光学元件芯模的光刻工艺研究

• 作者: 何兴道 刘智怀 张贵红 李平贵 龚勇清
• 来源期刊: 中国西部科技
• 学科: 工学
• 关键词: 微光学 分辨率 光刻胶 最佳参数
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 开发应用
• 页码范围: 10-12
• 页数: 3页
• 分类号: TN3
• 字数: 3129字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-6396.2008.06.004

摘要

光刻法作为微光学元件的主要生产工艺,如何提高光刻加工工艺已经成为一个日益紧迫的问题.本文使用北京化学试荆研究所生产的BP-213系列紫外正型光刻胶,以分辨率板直接作为参考对象来判删光刻工艺的分辨率,并且在优化各控制变量的前提下,得出最佳工艺参数井对噪声进行分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何兴道	南昌航空大学自动化学院	83	415	10.0	17.0
2	龚勇清	南昌航空大学自动化学院	46	171	7.0	11.0
3	刘智怀	南昌航空大学自动化学院	4	18	2.0	4.0
4	李平贵	南昌航空大学自动化学院	4	18	2.0	4.0
5	张贵红	南昌航空大学自动化学院	1	5	1.0	1.0