CVD金刚石(膜)制备技术及应用进展

• 作者: 向鹏 邬纪泽 邱胜宝 马国欣
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: CVD 金刚石 薄膜 应用
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 5-11
• 页数: 7页
• 分类号: TN201
• 字数: 5190字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2009.05.002

摘要

化学气相沉积(CVD)方法是金刚石(膜)制备的主流技术,经过多年的发展,已从最初的微米金刚石膜发展到纳米金刚石膜,至目前高质量的单晶金刚石,应用领域不断扩展.除了工业和民用领域外,纳米金刚石膜在MEMS/NEMS、生物医学的应用进展引起业界关注,其中大尺寸单晶金刚石的制备是推动这些应用的关键.本文分析了MPCVD金刚石成膜特点,讨论了现阶段CVD金刚石膜商业化推广应用的制约因素,展望了今后金刚石膜的发展前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马国欣	华南理工大学电子与信息学院	34	223	8.0	13.0
5	向鹏	华南理工大学电子与信息学院	4	33	3.0	4.0
9	邱胜宝	广州中国科学院工业技术研究院	4	36	3.0	4.0
10	邬纪泽	广州中国科学院工业技术研究院	2	25	2.0	2.0