a-C:H膜化学结构对光学性能的影响

• 作者: 何智兵 刘兴华 吴卫东 张宝玲 王红斌 蔡从中
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: a-C:H薄膜 化学键 透过率 光学带隙 低压等离子体增强化学气相沉积法
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 350-354
• 页数: 5页
• 分类号: O484.41
• 字数: 3160字
• 语种: 中文

摘要

选用体积分数为99.999 9%的H2及反式-2-丁烯(T2B)为工作气体,利用低压等离子体增强化学气相沉积法制备了a-C;H薄膜.利用傅里叶变换红外光谱仪和X射线光电子能谱对薄膜化学键和电子结构进行分析,并结合高斯分峰拟合分析了薄膜中sp3/sp2杂化键比值和sp3C杂化键分数.结果表明:薄膜中氢含量较高,主要以sp3C-H形式存在;工作气压越高,制备的薄膜中C=C键含量越少,薄膜中sp3/sp2杂化键比值和sp3C杂化键分数增加,薄膜稳定性提高.应用UV-VIS光谱仪,获得了波长在400～1 000 nm范围内薄膜的光吸收特性,结果显示:a-C:H薄膜透过率可达98%.光学常数公式计算得到工作压强为4～14 Pa时光学带隙在2.66～2.76之间,并均随着工作气压的升高而增大.结果表明,随工作气压的升高,薄膜内sp3键减小,从而促使透过率、光学带隙增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴卫东	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	140	1087	18.0	26.0
2	蔡从中	重庆大学数理学院	24	228	7.0	14.0
3	王红斌	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	19	33	3.0	5.0
4	何智兵	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	46	212	7.0	11.0
5	张宝玲	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	5	23	3.0	4.0
6	刘兴华	重庆大学输配电装备及系统安全与新技术国家重点实验室	5	25	3.0	5.0