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摘要:
采用多弧离子镀技术,使用Ti Al Zr合金靶和Cr靶,在W18Cr4V高速钢基体上沉积(Ti,Al,Zr,Cr)N多组元氮化物膜.利用扫描电镜(SEM)、电子能谱仪(EDS)和X射线衍射(XRD)对薄膜的成分、结构和微观组织进行测量和表征;利用划痕仪、显微硬度计测评薄膜的力学性能.结果表明,获得的多组元氮化物膜仍具有B1 NaCl型的TiN面心立方结构;薄膜的成分除-50V偏压外,其它偏压下的变化均不明显;增大偏压可减少薄膜表面的液滴污染,提高薄膜的显微硬度及膜/基结合力,最高值可分别达到HV3300和190N.
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文献信息
篇名 多弧离子镀(Ti,Al,Zr,Cr)N多组元氮化物膜的研究
来源期刊 真空科学与技术学报 学科 工学
关键词 无机非金属材料 多弧离子镀 TiN基硬质膜 高速钢 偏压
年,卷(期) 2009,(6) 所属期刊栏目 技术交流
研究方向 页码范围 707-711
页数 5页 分类号 TB321
字数 2546字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1672-7126.2010.06.24
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘常升 东北大学材料各向异性与织构工程教育部重点实验室 252 2803 27.0 39.0
2 张钧 沈阳大学机械工程学院 49 208 8.0 12.0
4 赵时璐 东北大学材料各向异性与织构工程教育部重点实验室 5 56 4.0 5.0
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1672-7126
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大16开
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
1981
chi
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