CVD金刚石在电真空器件中的应用

• 作者: 刘征 李新宇 郭辉 高陇桥
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 物理学
• 关键词: CVD金刚石膜 电真空器件 封接
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 电子陶瓷、陶瓷-金属封接与真空开关管用陶瓷管壳应用专辑
• 页码范围: 27-31,35
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 3893字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2009.04.008

摘要

介绍了化学气相沉积(CVD)金刚石膜应用于电真空器件夹持杆及输能窗方面的研究进展,和国外对CVD金刚石封接的几种技术解决方案以及国内CVD金刚石膜金属化及封接方面的研究情况.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘征		26	158	7.0	11.0
2	高陇桥		69	653	15.0	22.0
3	李新宇		5	27	3.0	5.0
4	郭辉		2	13	2.0	2.0