磁场在硅集成电路制造工艺中的应用

• 作者: 赵雨 陈东生
• 来源期刊: 上海电力学院学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁场 半导体 集成电路 交叉科学
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 技术应用
• 页码范围: 388-390
• 页数: 3页
• 分类号: O441.2|TN4
• 字数: 2361字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-4729.2009.04.019

摘要

分析了磁控直拉法技术和磁场增强型反应等离子刻蚀技术在现代半导体集成电路制造工艺中的应用.简要论述了学科交叉的重要意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵雨	上海电力学院数理系	10	42	3.0	6.0
2	陈东生	上海电力学院数理系	60	132	5.0	9.0