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摘要:
金刚石是一种集多种优良性能于一体的功能材料,但是,金刚石薄膜sp3碳构造的高稳定性导致其表面活性不足,无法满足各种功能性表面的需要.本文从化学修饰角度,研究了卤素在金刚石薄膜表面导入的方法和修饰后的应用,并对修饰后的金刚石表面进行了XPS表征.结果表明,卤素已成功的修饰到了金刚石薄膜表面.
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文献信息
篇名 CVD金刚石薄膜表面的卤素修饰
来源期刊 天津理工大学学报 学科 工学
关键词 金刚石薄膜 化学修饰 卤素 加成反应 X射线光电子能谱(XPS)
年,卷(期) 2009,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 74-77
页数 4页 分类号 TN305.2
字数 1379字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1673-095X.2009.02.023
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 常明 天津理工大学电子信息工程学院 27 173 8.0 11.0
2 安仲善 天津理工大学电子信息工程学院 2 17 2.0 2.0
3 袁健 天津理工大学电子信息工程学院 3 22 2.0 3.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
金刚石薄膜
化学修饰
卤素
加成反应
X射线光电子能谱(XPS)
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
天津理工大学学报
双月刊
1673-095X
12-1374/N
大16开
天津市西青区宾水西道391号
1984
chi
出版文献量(篇)
2405
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4
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13943
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