调整靶衬间距实现纳米Si晶粒尺寸的均匀可控

• 作者: 傅广生 王英龙 褚立志 邓泽超 闫常瑜
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 纳米Si晶粒 脉冲激光烧蚀 Monte Carlo模拟 振荡稳定时间
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 989-992
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2126字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL20093604.0989

摘要

采用脉冲激光烧蚀装置,在10 Pa的氩气环境下,在1～6 cm范围内调整衬底与靶的距离沉积制备了纳米Si薄膜.X射线衍射(XRD)谱和Raman谱测量均证实,纳米Si晶粒已经形成;利用扫描电子显微镜(SEM)观测了所形成的纳米Si薄膜的表面形貌.结果表明,随着靶衬间距的增加,所形成的纳米Si晶粒的平均尺寸减小(尺寸均匀性变差),在3 cm时达到最小值(尺寸分布最均匀),而后开始增大(尺寸均匀性变差).利用蒙特-卡罗(Monte Carlo)方法,对不同靶衬间距下烧蚀产物的输运动力学过程进行了数值模拟,得到与实验结果相同的结论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	傅广生	河北大学物理科学与技术学院	184	817	13.0	17.0
2	邓泽超	河北大学物理科学与技术学院	48	123	6.0	8.0
3	褚立志	河北大学物理科学与技术学院	47	155	7.0	10.0
4	王英龙	河北大学物理科学与技术学院	96	301	9.0	12.0
5	闫常瑜	河北大学物理科学与技术学院	5	47	4.0	5.0