靶衬间距对脉冲激光沉积薄膜均匀性的影响

• 作者: 王成伟 陈建彪 马军满
• 来源期刊: 西北师范大学学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲激光沉积(PLD) 靶衬间距 均匀性
• 年，卷（期）: 2010,（3）
• 所属期刊栏目: 物理学
• 页码范围: 39-43
• 分类号: O484.1|TN249
• 字数: 2888字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-988X.2010.03.010

摘要

以国产脉冲激光沉积设备(PLD-Ⅲ型)在玻璃衬底上沉积TiO2薄膜为例,研究了PLD法制膜过程中靶衬间距对薄膜均匀性的影响.实验过程中,以TiO2陶瓷片作为靶材,玻璃作为衬底,保持其他工艺条件(如单脉冲能量、脉冲频率、沉积脉冲总数、衬底温度等)不变,专门考察了不同靶衬间距下,TiO2薄膜在整个衬底台平面区域的沉积分布状况.结果表明,按样品的表观灰度划分,薄膜沉积的相对均匀区可分为2～3个轴对称区域,分别对应不同的沉积速率和厚度;在一定范围内调节靶衬间距(3.00～7.00 cm),可使高速率沉积区逐渐由轴对称的圆环状变为中心大圆斑(直径约2.20 cm).结合PLD沉积原理与靶衬之间的几何关系,分析了导致上述结果的机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王成伟	西北师范大学物理与电子工程学院	32	153	7.0	10.0
5	陈建彪	西北师范大学物理与电子工程学院	6	19	3.0	4.0
6	马军满	西北师范大学物理与电子工程学院	1	4	1.0	1.0