脉冲激光沉积制备薄膜的研究动态

• 作者: 叶云霞 张永康 王大承
• 来源期刊: 江苏理工大学学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 激光沉积 薄膜 制备
• 年，卷（期）: 2001,（2）
• 页码范围: 56-59
• 页数: 4页
• 分类号: TN249
• 字数: 3570字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-7775.2001.02.014

摘要

综述了脉冲激光沉积制备薄膜的原理、特点，国内外对脉冲激光沉积的研究应用情况及目前的最新研究方向.着重分析了脉冲激光沉积过程中各主要沉积条件，如激光能量密度、靶—基体距、真空室气压及基体温度等对薄膜质量的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶云霞	江苏理工大学机械工程学院	2	46	2.0	2.0
2	王大承	江苏理工大学机械工程学院	2	44	2.0	2.0
3	张永康	江苏理工大学机械工程学院	31	428	13.0	19.0