间歇生长模式高甲烷浓度制备纳米金刚石膜

• 作者: 姜宏伟 彭鸿雁 曲晏宏 王军 祁文涛 陈玉强
• 来源期刊: 材料导报：纳米与新材料专辑
• 学科: 化学
• 关键词: 直流热阴极PCVD 高甲烷浓度 纳米金刚石膜 间歇式
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 页码范围: 67-70
• 页数: 4页
• 分类号: O613.71

摘要

采用直流热阴极PCVD技术，经过生长温度的周期性调整，达到清除多余游离碳和刻蚀非金刚石相的目的，实现了在高甲烷浓度条件下制备纳米金刚石膜。金刚石膜的生长过程分为沉积阶段和刻蚀去除阶段，沉积时间为15min，刻蚀时间为5min，生长周期为20min，总的沉积时间为6h。采用拉曼光谱仪、SEM和XRD分析仪对样品进行了分析，结果显示样品具有纳米金刚石膜的基本特征。研究表明，在高甲烷浓度条件下，直流热阴极PCVD间歇生长模式可有效去除生长腔内的游离碳成分，实现正常放电激励，维持正常生长，制备出纳米金刚石膜。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姜宏伟	牡丹江师范学院新型炭基功能与超硬材料省重点实验室	29	46	3.0	5.0
2	彭鸿雁	牡丹江师范学院新型炭基功能与超硬材料省重点实验室	29	94	6.0	8.0
3	陈玉强	牡丹江师范学院新型炭基功能与超硬材料省重点实验室	27	60	5.0	7.0
4	祁文涛	牡丹江师范学院新型炭基功能与超硬材料省重点实验室	6	19	2.0	4.0
5	王军	牡丹江师范学院新型炭基功能与超硬材料省重点实验室	4	7	1.0	2.0
6	曲晏宏	牡丹江师范学院新型炭基功能与超硬材料省重点实验室	2	5	1.0	2.0