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3D互连中光刻与晶圆级键合技术面临的挑战,趋势及解决方案
3D互连中光刻与晶圆级键合技术面临的挑战,趋势及解决方案
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
三维互连
晶圆键合
光刻
解决方案
光刻设备
键合对准精度
发展趋势
摘要:
目前,3D集成技术的优势正在扩展消费类电子产品的潜在应用进入批量市场.这些新技术也在推进着当前许多生产工艺中的一些封装技术包括光刻和晶圆键合成为可能.其中还需要涂胶,作图和蚀刻结构.探讨一些与三维互连相关的光刻技术的挑战.用于三维封装的晶圆键合技术将结合这些挑战和可用的解决方案及发展趋势一并介绍.此外还介绍了一种新的光刻设备,它可通过图形识别技术的辅助实现低于0.25μm的最终对准精度.对于采用光刻和晶圆级键合技术在三维互连中的挑战,趋势和解决方案及SUSS公司设备平台的整体介绍将根据工艺要求来描述.在这些技术中遇到的工艺问题将集中在晶圆键合和光刻工序方面重点讨论.
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文献信息
篇名
3D互连中光刻与晶圆级键合技术面临的挑战,趋势及解决方案
来源期刊
电子工业专用设备
学科
工学
关键词
三维互连
晶圆键合
光刻
解决方案
光刻设备
键合对准精度
发展趋势
年,卷(期)
2010,(10)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
26-31
页数
分类号
TN405.97
字数
语种
中文
DOI
五维指标
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电子工业专用设备
主办单位:
中国电子科技集团公司第四十五研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1004-4507
CN:
62-1077/TN
开本:
大16开
出版地:
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
邮发代号:
创刊时间:
1971
语种:
chi
出版文献量(篇)
3731
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