掺磷氢化纳晶硅薄膜的晶粒尺寸和晶格畸变的研究

• 作者: 冯红亮 刘绪伟 卢景霄 郜小勇
• 来源期刊: 郑州大学学报（理学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 掺磷氢化纳晶硅薄膜 晶格畸变 平均晶粒尺寸 表面增强效应
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 页码范围: 51-55
• 分类号: O484.1
• 字数: 3073字
• 语种: 中文

摘要

采用等离子增强化学气相沉积在玻璃衬底上制备了掺磷氢化纳晶硅薄膜,并利用X射线衍射谱(XRD)和拉曼散射谱研究了PH3浓度(GFR=[PH3]/[SiH4])对薄膜平均晶粒尺寸和晶格畸变的影响.结果显示磷弱掺杂有利于晶化,而重掺杂抑制晶化.随着GFR的增大,Si(111)方向上的平均晶粒尺寸呈现出先减小后增大的趋势,而对应的晶格畸变则呈现了相反的变化趋势,小的晶粒尺寸诱导了大的晶格畸变.该结果可归结于与平均晶粒尺寸相关的表面增强效应.在掺磷氢化纳晶硅薄膜的制备过程中,PH3起了关键的有效掺杂作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郜小勇	郑州大学物理工程学院	52	301	10.0	14.0
2	刘绪伟	郑州大学物理工程学院	10	49	4.0	6.0
3	卢景霄	郑州大学物理工程学院	100	570	12.0	17.0
4	冯红亮	郑州大学物理工程学院	4	7	2.0	2.0