LiCaAlF6单晶的非真空坩埚下降法生长

• 作者: 周燕飞 方奇术 梁哲 武安华 王苏静 陈红兵
• 来源期刊: 宁波大学学报（理工版）
• 学科: 物理学
• 关键词: LiCaAlF6 氟化处理 单晶生长 坩埚下降法
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 物理与化学
• 页码范围: 66-70
• 分类号: O782
• 字数: 2829字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5132.2010.02.014

摘要

以高纯氟化物LiF、CaF2和AlF3为初始试剂,按照精确化学计量比1:1:1摩尔比配料,经高温氟化处理合成严格无水的LiCaAlF6多晶料.将该多晶料密封在铂坩埚中,添加少量聚四氟乙烯粉末,可避免氟化物熔体的氧化与挥发,从而在非真空条件下实现LiCaAlF6单晶的坩埚下降法生长.在单晶生长过程中,炉体温度控制于910～930℃,固液界面温度梯度为30℃·cm-1左右,坩埚下降速率为0.5～1.0mm·h-1,成功生长出无色透明的LiCaAlF6单晶.应用XRD、透射光谱,红外光谱进行了LiCaAlF6单晶基本性质的测试表征.结果表明,该单晶在190～1100mm区域内的光透过率达85%以上.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周燕飞	中国科学院上海硅酸盐研究所	9	25	3.0	4.0
2	武安华	中国科学院上海硅酸盐研究所	26	110	7.0	9.0
3	陈红兵		16	53	3.0	5.0