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摘要:
采用坩埚下降法生长了CaF2单晶体,研究了不同条件生长的单晶缺陷和光谱性能.结果表明:当晶体生长过程中进入水等含氧杂质时,所生长的晶体不仅在1500nm附近产生非常宽的OH-两倍振动吸收带,而且在可见-紫外波段也形成强烈的色心吸收带.同时,杂质离子Ce3+的存在也导致晶体出现306nm的吸收带.
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文献信息
篇名 坩埚下降法生长CaF2单晶的研究
来源期刊 人工晶体学报 学科 物理学
关键词 CaF2晶体 下降法 位错蚀坑 光谱
年,卷(期) 2006,(6) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 1328-1331
页数 4页 分类号 O781
字数 1730字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-985X.2006.06.036
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘景和 134 714 13.0 18.0
2 范翊 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 12 53 5.0 6.0
3 段安锋 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 5 37 4.0 5.0
7 沈永宏 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 5 37 4.0 5.0
8 关树海 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 3 13 2.0 3.0
9 罗劲松 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 5 10 2.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
CaF2晶体
下降法
位错蚀坑
光谱
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
出版文献量(篇)
7423
总下载数(次)
16
总被引数(次)
38029
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