大面积金刚石膜/Si衬底复合片均匀性研究

• 作者: 刘金龙 吕反修 张营营 李成明 陈良贤 黑立富
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石膜 均匀性 真空退火 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 44-48
• 分类号: TQ164
• 字数: 3002字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2010.05.009

摘要

对直流电弧等离子体喷射化学气相沉积技术,在φ76.2 mm的Si衬底上沉积得到的金刚石膜,通过SEM和激光Raman表征其质量均匀性.为缓解金刚石膜 /Si复合片的内应力,采用台阶式冷却的方式,对样品在1 050 ℃进行真空退火处理,使样品内的压应力从3.09 GPa减小到1.16 GPa.对样品生长面进行机械抛光,采用表面轮廓仪检测其表面粗糙度均匀性.结果表明:在φ76.2 mm的金刚石膜/Si复合片上获得的表面粗糙度小于5 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕反修	北京科技大学材料科学与工程学院	151	1208	18.0	24.0
2	黑立富	北京科技大学材料科学与工程学院	39	153	6.0	10.0
3	张营营	北京科技大学材料科学与工程学院	2	4	2.0	2.0
4	李成明	北京科技大学材料科学与工程学院	71	480	12.0	19.0
5	陈良贤	北京科技大学材料科学与工程学院	34	69	4.0	5.0
6	刘金龙	北京科技大学材料科学与工程学院	34	82	5.0	7.0