莫尔条纹分析及其在光刻对准中的应用

• 作者: 周绍林 徐文祥 胡松 马平
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 地球科学
• 关键词: 莫尔条纹 光栅 调制规律 光刻对准
• 年，卷（期）: 2010,（7）
• 所属期刊栏目: 微电子技术
• 页码范围: 102-106
• 分类号: N31
• 字数: 3386字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2010.07.020

摘要

从莫尔条纹用于光刻对准的实际应用出发,从傅里叶光学的角度重点讨论了一般光栅及线光栅对莫尔条纹的调制规律,并对广泛应用的低频(1,-1)级莫尔条纹进行了仿真分析.最后通过仿真分析说明,在光刻对准中,对栅线重复频率相差很小的两光栅对准标记,将产生对位移具有高灵敏度特性的放大莫尔条纹,从而实现高精度光刻对准,并对采用该对准方法的光刻对准精度进行了简要分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡松	中国科学院光电技术研究所	93	705	12.0	24.0
2	马平	中国科学院光电技术研究所	45	544	12.0	21.0
3	徐文祥	中国科学院光电技术研究所	8	42	3.0	6.0
4	周绍林	中国科学院光电技术研究所	11	55	5.0	7.0