碱性纳米SiO2溶胶在化学机械抛光中的功能

• 作者: 刘效岩 刘玉岭 梁艳 胡轶 赵东磊 赵之雯
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米SiO2溶胶 化学机械抛光 表面效应 pH值 化学反应模型
• 年，卷（期）: 2010,（11）
• 页码范围: 1903-1906
• 分类号: TG146.4|TN305.2
• 字数: 2308字
• 语种: 中文

摘要

纳米SiO2是一种性能优越的功能材料,化学机械抛光(CMP)过程的精确控制在很大程度上取决于对纳米SiO2功能的认识.但是目前对碱性纳米SiO2在CMP过程中的功能还没有完全弄清楚,探讨它在CMP中作用是提高CMP技术水平的前提.纳米SiO2溶胶的表面效应使其表面存在大量的羟基,在CMP过程中纳米SiO2表面羟基与碱反应生成硅酸负离子,硅酸负离子再与硅反应来降低纳米SiO2的表面能量,同时达到除去硅的目的.综上所述,碱性纳米SiO2在CMP的过程中不仅起到了磨料的作用,同时参加了化学反应,在此基础上提出了在碱性条件下纳米SiO2与硅的反应机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘玉岭	河北工业大学信息工程学院	263	1540	17.0	22.0
2	赵之雯	河北工业大学信息工程学院	9	106	5.0	9.0
3	刘效岩	河北工业大学信息工程学院	20	133	8.0	10.0
4	梁艳	河北化工医药职业技术学院制药工程系	5	33	4.0	5.0
5	胡轶	河北工业大学信息工程学院	8	60	6.0	7.0
6	赵东磊	河北工业大学信息工程学院	13	38	4.0	6.0