化学机械抛光中的纳米级薄膜流动

• 作者: 张朝辉 雒建斌 雷红
• 来源期刊: 中国机械工程
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光 平面度 纳米级流动 温度场
• 年，卷（期）: 2005,（14）
• 所属期刊栏目: 微纳米材料及其特性
• 页码范围: 1282-1285
• 页数: 4页
• 分类号: TH117
• 字数: 2797字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-132X.2005.14.018

摘要

在简述化学机械抛光技术的基础上,提出化学机械抛光过程中,受载的粗糙峰和被抛光的晶片表面之间存在一纳米量级的薄流体膜,形成了纳米级薄膜流动系统.指出对纳米级流动规律进行研究将有助于了解化学机械抛光的作用机理,其中,在极薄的膜厚情况下的温度场分析是一项迫切任务.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张朝辉		30	292	11.0	16.0
2	雷红		22	456	10.0	21.0
3	雒建斌	清华大学摩擦学国家重点实验室	96	1802	22.0	37.0