热处理对电沉积制备ZnS薄膜物相组成及光学性能的影响

• 作者: 刘俊 夏冬林 张兴良 王慧芳 石正忠
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnS薄膜 电沉积 热处理 光学性能
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 页码范围: 392-395
• 分类号: O484
• 字数: 1804字
• 语种: 中文

摘要

采用电沉积方法在氧化铟锡(ITO)导电玻璃上沉积了ZnS薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、紫外-可见光(UV-VIS)分光光度计对薄膜的微结构和光学性能进行了表征,研究了热处理条件对薄膜的相组成和光学性能的影响.结果表明:电沉积制备的ZnS薄膜呈非晶态,并且含有单质Zn.硫化热处理可以改善薄膜的结晶状况,减少杂质Zn的含量.硫气氛中450 ℃热处理4 h之后,薄膜中单质Zn全部反应生产ZnS,得到了纯的ZnS薄膜.没有经过热处理的薄膜,其可见光透射率在70%左右,热处理后薄膜样品的透射率降低,在硫气氛中热处理4 h的样品,其可见光透射率最低,为50%左右,热处理条件对薄膜样品的禁带宽度值基本没有影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘俊	武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室	31	262	10.0	15.0
2	夏冬林	武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室	43	437	11.0	20.0
3	石正忠	武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室	6	37	4.0	6.0
4	张兴良	武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室	6	29	3.0	5.0
5	王慧芳	武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室	5	27	3.0	5.0