脉冲激光能量密度对Mo薄膜生长的影响

• 作者: 吴卫东 唐永建 王锋 邢丕峰 雷洁红
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 脉冲激光沉积(PLD) Mo薄膜 能量密度 表面粗糙度 晶粒尺寸
• 年，卷（期）: 2010,（9）
• 页码范围: 1623-1626
• 分类号: O484
• 字数: 3115字
• 语种: 中文

摘要

用脉冲激光沉积(PLD)法在Si(100)基片上制备金属Mo薄膜,研究薄膜结晶性能与能量密度之间的关系,探讨薄膜生长机制和粒子能量在薄膜生长中的作用.原子力显微镜(AFM)图像显示,薄膜表面平整、光滑,均方根粗糙度小于2 nm.X射线衍射(XRD)分析表明,随着能量密度的增加,Mo薄膜衍射峰宽变窄,薄膜从非晶态逐步变为多晶态,晶粒尺寸逐步变大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐永建		281	2334	24.0	31.0
2	吴卫东		140	1087	18.0	26.0
3	王锋		23	81	6.0	7.0
4	邢丕峰		59	303	9.0	14.0
5	雷洁红		24	42	3.0	5.0