两步酸修饰的多晶硅绒面结构

• 作者: 冯仕猛 刘峰 刘绍军 林育琼 王坤霞 裴俊
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 酸腐蚀法 表面结构 陷光效应 反射率
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 707-710
• 分类号: TM914.41
• 字数: 1955字
• 语种: 中文

摘要

本文提出两步法制备多晶硅表面绒面技术,用两次化学腐蚀修饰多晶硅片的表面。实验中首先采用腐蚀液HF/NaNO2/H2O对多晶硅表面进行腐蚀,然后采用腐蚀液HF/HNO3/（NH4）2C2O4/H2O对其表面进一步修饰。通过多晶硅SEM表面形貌图分析,两步法修饰的多晶硅表面有形状如蚯蚓状的腐蚀坑,腐蚀坑的深度和分布密度相对较大。通过反射谱分析了多晶硅片表面陷光效果,并与用其它方法修饰的硅表面陷光效果进行了对比,与传统配方HF/HNO3/H2O获得的多晶硅表面相比,综合平均反射率下降了7%左右。这种方法获得的多晶硅表面能有效收集太阳光,有利于提高太阳能电池的转换效率。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯仕猛	上海交通大学物理系	39	143	7.0	9.0
2	林育琼	上海交通大学物理系	2	18	2.0	2.0
3	王坤霞	上海交通大学物理系	5	45	5.0	5.0
4	裴俊		2	21	2.0	2.0
5	刘绍军		1	9	1.0	1.0
6	刘峰		2	15	2.0	2.0