未确认Mura分析及改善对策

• 作者: 彭毅雯 徐伟 肖光辉
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 未确认Mura 扇形区域 有源层残留 曝光工艺条件
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 器件制备技术及器件物理
• 页码范围: 612-615
• 分类号: TN141.9
• 字数: 1944字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20112605.0612

摘要

未确认Mura是一种能够影响TFT-LCD画面品质的不良.文章对未确认Mura不良进行了详细的分析,认为扇形区域出现有源层残留是导致未确认Mura不良发生的原因,介绍了一种通过变更曝光工艺条件来解决此种不良的方法,并通过试验论证了此方法的量产可行性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐伟	清华大学电子工程系	15	127	7.0	11.0
3	彭毅雯	清华大学电子工程系	2	25	2.0	2.0
9	肖光辉		1	12	1.0	1.0