基于电子束曝光的微区加热技术

• 作者: 初明璋 孔祥东 薛虹 韩立
• 来源期刊: 纳米技术与精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束 微区加热 吸收能量密度 剂量 表面改性
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 精密加工
• 页码范围: 440-445
• 分类号: TN305
• 字数: 3250字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-6030.2011.05.012

摘要

提出了基于电子束曝光的微区加热技术.在研究样品吸收能量密度的基础上,在FEI820 Dual Beam FIB/SEM系统上对30 keV电子来曝光Pb、Bi、Sn、Al金属薄膜以及15 keY电子束曝光S1805正性抗蚀剂微结构时的微区加热效应进行了实验研究.结果表明,在一定的曝光剂量下样品表面出现了熔化现象,证明采用电子束曝光可以使某些材料微小区域表面达到相变温度或熔点以上,为使用电子束曝光技术完成某些材料的微纳区域表面热处理以及制备具有光滑曲面的微结构提供了新途径.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩立	中国科学院电工研究所	98	376	9.0	13.0
2	初明璋	中国科学院电工研究所	15	85	6.0	8.0
3	薛虹	中国科学院电工研究所	18	30	3.0	4.0
4	孔祥东	中国科学院电工研究所	4	2	1.0	1.0