氮化铝基片的集群磁流变抛光加工

• 作者: 潘继生 白振伟 祝江停 路家斌 阎秋生
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化铝基片 集群磁流变效应 抛光 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 页码范围: 35-38
• 分类号: TG58
• 字数: 3108字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2011.05.008

摘要

本文进行了氮化铝基片的集群磁流变抛光加工研究,分析了主要工艺参数的影响和加工表面形貌特征.实验结果表明:集群磁流变抛光加工氮化铝基片可以实现高效率超光滑抛光,原始表面Ra1.730 2μm抛光60 min后可以达到Ra0.037 8μm.选用碳化硅磨料,磨料质量浓度为0.05 g/mL,工件与抛光盘转速比为5.8左右,加工初期采用较小加工间隙最后抛光采用较大加工间隙,可以获得较高的材料去除率和较光滑的加工表面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	阎秋生	广东工业大学机电工程学院	146	787	13.0	20.0
2	潘继生	广东工业大学机电工程学院	34	203	8.0	12.0
3	路家斌	广东工业大学机电工程学院	58	257	9.0	12.0
4	白振伟	广东工业大学机电工程学院	8	63	4.0	7.0
5	祝江停	广东工业大学机电工程学院	3	41	3.0	3.0