氮化铝陶瓷基片的集群磁流变效应研磨加工

• 作者: 刘俊龙 周旭光 白振伟 阎秋生
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化铝(AIN)陶瓷基片 集群磁流变效应 研磨加工 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 页码范围: 18-23
• 页数: 6页
• 分类号: TG58
• 字数: 3723字
• 语种: 中文

摘要

采用集群磁流变效应研磨加工方法对氮化铝(AIN)陶瓷基片进行研磨加工,系统地分析了主要工艺参数的影响和最终经过精密研磨后的加工表面形貌特征.结果表明,集群磁流变效应研磨加工方法可以实现对氮化铝(AIN)陶瓷基片的高效率高精度研磨加工,原始表面Ra1.730 μm经过粗研10 min和精研30 min后可以达到0.029 μm,下降两个数量级.在粗研阶段,选用二氧化硅磨料#4000、磨料体积分数12％、研磨盘转速150 r/min、研磨压力3.5 kPa,可以获得较高的材料去除率和较光滑的加工表面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周旭光	深圳职业技术学院机电工程学院	30	65	5.0	7.0
2	阎秋生	广东工业大学机电工程学院	146	787	13.0	20.0
3	刘俊龙	广东工业大学机电工程学院	3	10	2.0	3.0
4	白振伟	深圳职业技术学院机电工程学院	8	63	4.0	7.0