金属双边二次电子倍增的理论分析与数值模拟

• 作者: 杨温渊 董志伟 董烨
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 高功率微波 金属双边二次电子倍增 蒙特卡罗方法 3维全电磁粒子模拟程序
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: 高功率微波
• 页码范围: 454-462
• 分类号: O462.2
• 字数: 6115字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20112302.0454

摘要

针对金属双边二次电子倍增现象,分析给出了电子共振方程、共振相位、相位聚焦条件以及碰撞电势;并根据二次电子发射的材料特性,研究了金属双边二次电子倍增的敏感区间.利用蒙特卡罗方法抽样选取电子初始发射能量和角度,数值研究了二次电子倍增的敏感区间,并与理论结果进行了比对,给出了二次电子数目随时间的增长关系.利用材料二次发射特性的经验公式,辅以电子碰撞角和碰撞能量计算以及对二次电子初始能量和发射角度的蒙特卡罗随机抽样算法,编制了3维全电磁粒子模拟程序NEPTUNE的金属边界二次电子发射功能模块,模拟金属双平板二次电子倍增过程,获得了二次电子倍增物理图像、二次电子数目随时间演化规律等结果.模拟结果不仅验证了理论分析,还表明在合适的条件下,空间电荷限制作用将导致二次电子倍增的饱和.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董烨		49	210	9.0	10.0
2	董志伟		111	478	10.0	12.0
3	杨温渊		41	204	9.0	11.0