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多层高反膜光学常数和厚度的反演
多层高反膜光学常数和厚度的反演
作者:
吴素勇
周天宇
杨开勇
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
薄膜光学
光学常数
全光谱拟合法
遗传算法
摘要:
基于精英保留策略的遗传算法具有良好的全局寻优能力和很强的鲁棒性,基于Levenberg-Marquardt 算法的非线性最小二乘法具有快速、高效的局部收敛能力.研究了将这两种算法结合起来求解多层膜光学常数和厚度的可行性和有效性.结果表明:基于两种算法的组合反演算法综合了这两种算法的优点,能以较大的概率、较高的精度找到在实际约束条件下多层膜的光学常数和厚度,特别是在寻找全局最优解方面表现出色.根据全光谱透射拟合法基本原理,应用组合反演算法分别在考虑测量误差与不考虑测量误差两种情况下反演 15 层规整高反膜的光学常数和厚度,得到了较为精确的薄膜参数.模拟实验表明:此组合反演算法可有效地求解多层膜反演问题,在反演多层膜光学常数和厚度方面具有实际的应用价值.
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篇名
多层高反膜光学常数和厚度的反演
来源期刊
应用光学
学科
物理学
关键词
薄膜光学
光学常数
全光谱拟合法
遗传算法
年,卷(期)
2011,(1)
所属期刊栏目
光学元件与制造
研究方向
页码范围
128-132
页数
分类号
O484.4
字数
3430字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1002-2082.2011.01.028
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
杨开勇
国防科学技术大学光电科学与工程学院光电工程系
20
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2
吴素勇
国防科学技术大学光电科学与工程学院光电工程系
23
45
4.0
5.0
3
周天宇
国防科学技术大学光电科学与工程学院光电工程系
2
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薄膜光学
光学常数
全光谱拟合法
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研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
应用光学
主办单位:
中国兵工学会
中国兵器工业第二0五研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-2082
CN:
61-1171/O4
开本:
大16开
出版地:
西安市电子城电子三路西段9号(西安123信箱)
邮发代号:
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
3667
总下载数(次)
3
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