制备铋靶的脉冲电镀工艺

• 作者: 夏姣 张欢 张红强 戴亚堂
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 铋靶 脉冲电镀 无氰镀液 乙二胺四乙酸盐 表面形貌
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 428-432
• 分类号: TQ153.1
• 字数: 2551字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20112302.0428

摘要

采用脉冲电镀工艺,以直径为1 mm的铜丝为芯轴,在无氰镀液体系中,制备出惯性约束聚变实验用铋靶所需的金属铋镀层.通过正交试验得到的最佳脉冲工艺条件为:电流密度5 A/cm2,频率600 Hz,占空比1:6,温度20℃.利用扫描探针显微镜和扫描电子显微镜分别对铋镀层表面形貌进行分析,同时利用X射线衍射对铋镀层物相成分进行分析.表征结果表明:所得铋镀层表面细致均匀,孔隙率低,平整性好,无裂纹.